媒体中心 - 微纳芯科技

不是一个便宜、一个精细，而是材料被去除的方式不同在微纳加工里，刻蚀负责把光刻胶或硬掩膜上的图形，真正转移到下面的材料里。刚开始接触这一步时，经常会听到两种说法：湿法刻蚀便宜、简单…

2026-10-10

从潜像、溶解前沿到冲洗干燥，重新理解图形真正出现的过程曝光结束时，光刻胶里还没有真正的沟槽、孔或线条。此时留下的只是一个潜像：胶膜不同位置的化学状态发生了变化，随后在指定显影体系中…

2026-10-10

近年来，电子束光刻的众多优势凸显出来，通过电子束直写的形式将图形直接转移到晶圆上，不需掩膜版，直写线宽可达约 10 nm（以实际工艺能力为准），然而这种方法也存在一些不足，像曝光时…

2025-07-27